JKA(競輪)補助事業導入機器のご紹介

【JKA補助事業】により導入した試験分析機器を、
地域企業や起業を目指す方に広く開放していますので、ご活用ください。

【JKA(競輪)補助事業】で導入した機器のご紹介

3Dプリント支援ソフトウェア

3Dプリンターで造形する際に必要となる3Dモデルの編集や修正等を行うことができます。

[導入年度] 令和6年度
[規格型式] Materialise Magics
[ 製造者 ] Materialise
[仕様 他] ファイルインポート機能 (各種中間ファイルおよび主要3DCADファイル)
3Dモデル修正・編集・改善機能
造形用サポート生成機能
分析機能(不適切形状検出、造形リスク予測等)
造形レポート作成機能
3Dプリント支援ソフトウェアの写真

機器設備を詳しく見る

3D設計解析システム

3Dモデルをもとに機械や構成部品の挙動や安全性等を検証します。

[導入年度] 令和6年度
[規格型式] SOLIDWORKS Professional, SOLIDWORKS Simulation Premium
[ 製造者 ] Dassault Systèmes
[仕様 他] モデルリング・図面作成機能
静解析・動解析機能
疲労解析機能
熱伝導解析機能
固有値解析機能
寸法最適化解析機能
3D設計解析システムの写真

機器設備を詳しく見る

評価用試験乾燥装置

食製品や工業材料の通風乾燥を様々な温度・相対湿度・風速で行い、その乾燥特性のデータ収集や乾燥品の試作加工を行う乾燥装置

[導入年度] 令和5年度
[規格型式] CRD-N3
[ 製造者 ] (株)タイヨー製作所
[仕様 他] 乾燥中の温度・相対湿度の測定、乾燥物の重量測定などができる
制御温湿度度範囲:(温度)15~80℃、(相対湿度)5~95%RH、(風速)0.1~3.0m/s
乾燥条件プログラム:20パターン(1パターンは20ステップ)
温湿度記録計:データロガー内蔵
評価用試験乾燥装置の写真

機器設備を詳しく見る

レーザー顕微鏡

機械金属部品や電気電子部品など、材料を高倍率で観察し、3D寸法測定を行います。

[導入年度] 令和4年度
[規格型式] OLS5100-EAT
[ 製造者 ] (株)島津製作所
[仕様 他] 検鏡方式 レーザー:反射型レーザー共焦点画像
カラー :CMOSカメラによるカラー画像
観察倍率 54倍~17,280倍
表示分解能 縦横(幅)1nm、高さ0.5nm
試料ステージ移動 XY方向100mm
試料高さ 最大200mm
光造形システムの写真

機器設備を詳しく見る

電界放射型走査電子顕微鏡

機械金属部品や電気電子部品など、材料を高倍率で観察し元素分析を行います。

[導入年度] 令和3年度
[規格型式] TESCAN CLARA LMH
[ 製造者 ] TESCAN社
[仕様 他] 電子銃 ショットキー電界放射型
観察倍率 2倍~200万倍
二次電子像分解能 0.9nm(15kV)、1.4nm(1kV)
反射電子像分解能 2.0nm(30kV)
試料ステージ移動 X=80mm、Y=60mm、Z=49mm、T=-80~+80°
試料高さ 最大49mm
元素分析 エネルギー分散型X線分光分析
検出可能元素 C~U
光造形システムの写真

機器設備を詳しく見る

ガスクロマトグラフ質量分析計

化学成分の分析を行います

[導入年度] 令和2年度
[規格型式] 8890/GC-5977B/MSD
[ 製造者 ] アジレント・テクノロジー社
[仕様 他] シングル四重極型キャピラリーガスクロマトグラフ質量分析計
測定可能範囲 m/z:15~1050
イオン源 EI法(セルフクリーニング機構付)
試料導入口 スプリット・スプリットレス注入口(オートサンプラ、熱分解試料導入装置付帯)
データ計測、解析ソフトウエア:MassHunter、F-Search ALL-IN-ONE、NISTライブラリ
光造形システムの写真

機器設備を詳しく見る

光造形システム

3次元CADデータ等を利用し、立体造形を行います。

[導入年度] 令和元年度
[規格型式] ATOMm-4000H
[ 製造者 ] シーメット株式会社
[仕様 他] 搭載レーザ 半導体励起固体レーザ 400mW
最大走査速度 30m/s
最大造形サイズ W400×D400×H300mm
最小積層ピッチ 25μm ※樹脂により異なります
繰返し精度 ±0.006mm
光造形システムの写真

機器設備を詳しく見る

走査電子顕微鏡

機械金属部品や電気電子部品など、材料のミクロ観察や分析を行う。

[導入年度] 平成30年度
[規格型式] JSM-IT200LA
[ 製造者 ] 日本電子株式会社
[仕様 他] 真空モード 高真空、低真空(10~100 Pa)
観察倍率 5倍~30万倍
電子銃 タングステンフィラメント
観察像 二次電子像(分解能3 nm)、反射電子像(分解能4 nm)
試料サイズ 最大150 mmφ
元素分析 Be~U検出可能
試料冷却 -25~+50 ℃
金属コーター スパッタリング方式、白金ターゲット
走査電子顕微鏡の写真

機器設備を詳しく見る

オージェ電子分光分析装置

真空機械部品、機械・金属材料、電子部品、電子・セラミックス材料の表面分析を行う。

[導入年度] 平成29年度
[規格型式] JAMP‐9510F
[ 製造者 ] 日本電子株式会社
[仕様 他] 検出感度 840,000 cps
アナライザ 静電半球形アナライザ
エネルギー分解能 0.05~0.6 %可変
電子銃 ショットキー電界放射形
二次電子分解能 3 nm
分析時最小プローブ径 8 nm
イオン電流 2 μA
試料ステージ傾斜角 0~90°
オージェ電子分光分析装置の写真

機器設備を詳しく見る

スパッタ装置

金属・電子材料の薄膜を製造する。

[導入年度] 平成28年度
[規格型式] SSP1000-C
[ 製造者 ] 株式会社菅製作所
[仕様 他] 膜厚分布 ±5%以下(Φ100mm内、回転成膜時)
成膜方向 可変(スパッタアップ、スパッタダウンなど)
メインポンプ ターボ分子ポンプ
基板サイズ Φ4インチ(最大)
カソードサイズ Φ2インチ
スパッタ電源 高周波電源
ネットワーク・アナライザの写真

機器設備を詳しく見る

ネットワーク・アナライザ

電子回路網の周波数特性を測定する。

[導入年度] 平成27年度
[規格型式] E5061B
[ 製造者 ] キーサイト・テクノロジー合同会社
[仕様 他] 周波数帯域 100kHz-3GHz
周波数分解能 1mHz±1.0ppm
Sパラメータ 測定可
校正 機械的校正
ネットワーク・アナライザの写真

機器設備を詳しく見る

オシロスコープ

電子回路の電圧変化を観測する。

[導入年度] 平成26年度
[規格型式] DSOS204A
[ 製造者 ] キーサイト・テクノロジー合同会社
[仕様 他] 帯域 2GHz
チャンネル数 4
ADCビット数 10
最大標準メモリ容量 100Mpoint(2ch時)
最高サンプリング速度 20 Gs/sec
オシロスコープの写真

機器設備を詳しく見る

フーリエ変換赤外分光光度計

有機材料・高分子材料・金属材料などの材質を分析できる。

[導入年度] 平成25年度
[規格型式] Frontier Gold FTIR
[ 製造者 ] 株式会社パーキンエルマー
[仕様 他] 測定範囲 8300~350cm-1
SN比 55000:1
最高分解能 0.4cm-1
自動大気補正機能 有り
フーリエ変換赤外分光光度計の写真

機器設備を詳しく見る

全自動マイクロビッカース硬度計

各種材料や小型部品などのビッカース硬度を自動で測定する。

[導入年度] 平成24年度
[規格型式] HMV-G-FA-S
[ 製造者 ] 株式会社 島津製作所
[仕様 他] 試験力 9.807mN~19.61N
可能試験 HV,HK,HRB,HBW,L,Kc
全自動試験可能
自動読取(分解能)視野 可(0.09μm)120×90μm
全自動マイクロビッカース硬度計の写真

機器設備を詳しく見る

示差走査熱量測定装置

材料の熱特性(融点、比熱など)を測定し、性能評価、材料開発に用いる。

[導入年度] 平成23年度
[規格型式] DSC1-F
[ 製造者 ] メトラー・トレド(株)
[仕様 他] 測定温度範囲:-85~650℃
昇温速度:0.01~400℃/分
温度精度:±0.2℃
温度再現性:±0.02℃
DSCセンサー分解能:0.04μW
最高デジタル分解能:0.02秒
示差走査熱量測定装置の写真

機器設備を詳しく見る

低温恒温恒湿機

様々な温度・湿度環境での試料の特性変化を検討し耐久性や信頼性の評価を行う。

[導入年度] 平成22年度
[規格型式] PL-2KP-T100
[ 製造者 ] エスペック(株)
[仕様 他] 温度範囲:-40℃〜+100℃
温度変動幅:±0.3℃
湿度範囲:20〜98%RH
湿度変動幅:±2.5%RH
温度上昇時間:-40℃〜+100℃まで45分以内
温度下降時間:+20℃〜-40℃まで50分以内
テストサイズ:W500×H750×D600mm
低温恒温恒湿機の写真

機器設備を詳しく見る

ハンマー式粉砕分級システム

金属・セラミックスから食品まで、目的の大きさの粉末を作る。

[導入年度] 平成21年度
[規格型式] ハンマー式粉砕分級システムKⅡW-1型
[ 製造者 ] ダルトン
[仕様 他] 処理量:10〜80kg/時
主に食品・有機物などの比較的柔らかい試料、ガラス・セラミックスなどのもろい材料の粉砕。〜数cmの試料より数十ミクロンの粉末を作製
ハンマー式粉砕分級システムの写真

機器設備を詳しく見る

ロジック・アナライザー

高速な計測制御用デジタル信号の測定及びシミュレーションやエラー修正等に使用し、効率的にデジタル回路の信頼性・安全性の向上を図る。

[導入年度] 平成20年度
[規格型式] 16822A
[ 製造者 ] アジレント・テクノロジー(株)
[仕様 他] 寸 法:約W443×H288×D330
質 量:約14.2kg
チャンネル数:68ch
最大タイミング・サンプリング・レート:1GHz(ハーフ)、500MHz(フル)
最大ステート・クロック・レート:450MHz
最大ステート・データ・レート:500Mb/s
パターンジェネレータ・チャンネル数:48ch
パターンジェネレータ・最大クロック:300MHz(ハーフ)、180MHz(フル)
電 源:115/230V 48〜66Hz(max.775W)
ロジック・アナライザーの写真

万能金属試験機計測制御システム

万能金属材料試験機による強度試験の制御・データ収集・データ解析を行い、製品開発等の支援を行う。

[導入年度] 平成19年度
[規格型式] SUTR-500KN
[ 製造者 ] 株式会社島津製作所
[仕様 他] 寸 法:約W700×H1670×D800
試験制御:シングル試験制御、サイクル試験制御、応力試験制御
ラムストローク制御:0.5mm/min〜最大負荷速度
試験力制御:0.1〜5.0フルスケール/min
ひずみ制御:0.1〜80%/min
入出力インターフェース:外部アナログ入力2ch、外部アナログ出力2ch、レコーダ出力、RS-232Cインターフェース
データ処理装置:●PC…IBM PC/AT互換機 ●OS…WindowsXP(Excel形式出力可能)
可能試験:引張、圧縮、3/4点曲げ試験
データ処理項目:弾性率、上降伏点、下降伏点、耐力点、中間試験力、中間変異、最大試験力点、破断点、エネルギー、 n値/r値/ポアソン比、任意計算式
電 源:3相200V(4KVA)
万能金属試験機計測制御システムの写真

近赤外分光蛍光光度計

機械・自動車に装備されている計器類のバックライトや装飾用照明、および蛍光ランプなどに使われている蛍光体材料の特性(発光スペクトルや色度など)を測定し、その性能評価に用いる。

[導入年度] 平成18年度
[規格型式] FP-6600-DS
[ 製造者 ] 日本分光株式会社
[仕様 他] 寸 法:W550×H330×D560
質 量:45kg
励起測定範囲:220~850nm
蛍光測定範囲:220~1010nm
励起測分解:1.0nm
蛍光測分解:2.0nm
励起側波長精度:±1.5nm
蛍光側波長精度:±3.0nm
特別付属品:固体試料測定アタッチメント(FDA-430)、燐光測定ベースユニット(PMA-283S)
電 源:単相AC100V-3.5A
近赤外分光蛍光光度計の写真

機器設備を詳しく見る

オージェデータシステム

オージェ電子分光分析(表面分析)装置を制御し、機械部品や金属材料の成分分析データの収集と解析を支援する。

[導入年度] 平成17年度
[規格型式] AP-ADS2
[ 製造者 ] 日本電子データム株式会社
[仕様 他] 寸 法:W500×H700×D700
質 量:40kg
データ測定:ワイドスペクトル、ナロースペクトル、デプスプロファイル、元素マッピング、ライン分析
データ処理:ノイズ除去、スムージング、バックグラウンド除去、定量補正計算、3次元表示
データ変換:ASCⅡ、VAMAS、BMP
P C:IBM PC/AT互換機
CPU:Pentium4 3GHz
メモリー:512MB
電 源:単相AC100V-15A
オージェデータシステムの写真

機器設備を詳しく見る

運動解析支援装置

ハイスピードビデオ等の映像記録用機器で撮影された映像を取り込み、機械の挙動や人体の動き等の運動解析を支援する。

[導入年度] 平成16年度
[規格型式] MOVIAS Model−M1
[ 製造者 ] 株式会社ナックイメージテクノロジー
[仕様 他] 寸 法:W630×H1170×D690
質 量:35kg
データ解析・処部:解析ソフトウェア標準装備・既存ハイスピードビデオの映像取り込みが可能
運動解析機能:基本物理量算出機能(位置、変位、長さ、面積、角度およびこれらの時間微分)、二次物理量算出機能(運動量、運動エネルギー、力)
計測点追尾機能:自動/半自動/手動
動画像の保存形式:AVI、連続BMP、連続TIFF
映像入力部:専用ハイスピードビデオデッキ(VHS、S-VHS)、入力映像信号…VBS、VS/C
モニタ部:専用17インチ高精度モニタ
電 源:単相AC100V-15A
運動解析支援装置の写真

機器設備を詳しく見る

燃焼排ガス分析システム

燃焼装置等から排出されるガス成分(NOx、SO2、CO、CO2、O2、煤じん等)の濃度を分析する。

[導入年度] 平成15年度
[規格型式] PG−250−PS1
[ 製造者 ] 株式会社堀場製作所
[仕様 他] 測定排ガス成分:NOx、SO2、CO、CO2、O2、煤じん(NOx、SO2、CO、 CO2、O2については同時測定)
排ガス測定濃度範囲:●NOx…0~25/50/100/250/500/1000/2500ppm ●SO20~200/500/1000ppm ●CO…0~200/500/1000/2000/5000ppm ●CO2…0~5/10/20 vol% ●O2…0~5/10/25 vol%
煤じん測定粒径範囲:0.4μm
排ガス及び煤じん測定及び分析原理:●NOx…常圧化学発光法 ●SO2、 CO、CO2…非分散型赤外線吸収法 ●O2…ジルコニア法 ●煤じん…アンダーゼン型多段式ダストサンプラ
排ガス測定再現性:●±0.5%F.S.以内(NOx:100ppm、CO:10000ppmレンジ以上)
±1.0%F.S.以内(上記以外のNOx、SO2、CO、CO2、O2)
排ガス測定直線性:±2.0%F.S.以内(NOx、SO2、CO、CO2、O2)
排ガス前処理能力:処理流量:3L/min
除湿能力:露天温度15℃
排ガス風速測定範囲:0.2~50m/s
排ガス温度測定範囲:0~200℃
排ガス分析出力:0-1.0V
データ出力ユニット:●入力…0~10V、AD分解能:16bit ●出力…PCMCIA2.1/JEIDA4.2、PC-card TypeII、USB
所用電力:約400W
燃焼排ガス分析システムの写真

機器設備を詳しく見る

赤外線映像装置

機械装置などの表面温度分布を熱画像として非接触測定する。

[導入年度] 平成14年度
[規格型式] TH5102(HT−2)
[ 製造者 ] 日本電気三栄株式会社
[仕様 他] 寸 法:W198×H98×D235
質 量:3.8kg
測定温度範囲:レンジ1…-20~200℃、レンジ2…0~1200℃
最小検知温度差:0.03℃(ノーマルモード、30℃時)
測定精度:±0.5%(レンジフルスケール)
測定波長:長波長(8~12μm程度)
検出器:処理流量:HgCdTe(スターリング冷却型)
光学ズーム:2倍
リアルタイムメモリ:64画像
熱画像画素数:255(H)×223(V)
広角レンズ:×0.43倍 走査角50度
熱画像処理プログラム:Windows対応
所用電力:約24W
赤外線映像装置の写真

機器設備を詳しく見る

遊星型ボールミルシステム

粉末をより細かく粉砕する。

[導入年度] 平成12年度
[規格型式] 遊星ボールミルP-4
[ 製造者 ] フリッチュ
[仕様 他] 最大500ccポット4個
250cc、80ccポット使用可能
最大加速度19.6G
サブミクロン〜数十ミクロンの粉末を作製
遊星型ボールミルシステムの写真

機器設備を詳しく見る

脱脂用加熱炉

工業材料中の油脂分を加熱分解し除去する。

[導入年度] 平成12年度
[規格型式] THM00-09
[ 製造者 ] 東邦金属(株)
[仕様 他] 炉内寸法:W150mm×H120mm×D600mm
常用温度:800℃
最高温度:900℃
昇温速度:700℃まで約4時間(プログラム昇温)
雰囲気:N2・H2
脱脂用加熱炉の写真

機器設備を詳しく見る

プリント基板作製装置

プリント基板の試作、回路の実験をする。

[導入年度] 平成11年度
[規格型式] FPZ-72AUTO
[ 製造者 ] ミッツ株式会社
[仕様 他] 設置場所:電子機器試験室/担当科:ものづくり技術支援グループ
加工範囲:400×400mm
テーブルサイズ:480×600mm
制御軸:X,Y,Z
最小パターン幅:0.1mm
最小切削幅:0.1mm(実用的には0.3mm)
コンプレッサ:7kgf/cm2
消費電力:300VA
重 量:約40kg
寸 法:750(W)×670(D)×450(H)mm
プリント基板作製装置の写真

機器設備を詳しく見る

精密万能試験機

高分子や金属、あるいは製品の機械的(強度)特性を測定する。

[導入年度] 平成7年度
[規格型式] オートグラフAGS-250kN
[ 製造者 ] 島津製作所
[仕様 他] 最大荷重:250kN(25ton)
引張・圧縮・3/4点曲げ試験が可能
高分子から金属まで幅広い材料に対応
精密万能試験機の写真

機器設備を詳しく見る

流速測定装置

空気や水の流れの速度を測定する。

[導入年度] 平成6年度
[規格型式] 8853
[ 製造者 ] 日本カノマックス株式会社
[仕様 他] 設置場所:機械加工室(メカトロ試験室)
レーザ:He-Ne 10mW
周波数シフト:ダブルブラッグセル方式(80MHz帯域×2)
応答周波数:30MHz
信号処理系:入力周波数範囲 1kHz~10MHz
電 源:単相100V
重 量:約20kg
寸 法:約530(W)×600(D)×200(H)mm
流速測定装置の写真

機器設備を詳しく見る

表面粗さ・輪郭形状測定機

表面の凸凹の様子と全体的な姿・形を精密に測定する。

[導入年度] 平成10年度
[規格型式] SV-C544
[ 製造者 ] (株)ミツトヨ
[仕様 他] 設置場所:精密測定室
測定範囲(表面粗さ/輪郭形状):X:100mm,Z:0.6mm/X:100mm,Z:50mm
X軸真直度(表面粗さ/輪郭形状):0.2um/100mm / 1um/100mm
測定力(表面粗さ/輪郭形状):3.9mN/30mN
表面粗さ 分解能:(X軸)0.1um (Z軸)0.05um,0.005um,0.0005um
(レンジ:600um,80um,8um)
輪郭形状 分解能:(X軸)0.05um (Z軸)0.2um
動作温度:15℃~25℃
電 源:100V
重 量:150kg
寸 法:1,410(W)×1,190(H)×485(D)mm
表面粗さ・輪郭形状測定機の写真

機器設備を詳しく見る

測定顕微鏡・顕微鏡測定データ処理装置

寸法の精密測定をする。

[導入年度] 平成8年度
[規格型式] MTM250
[ 製造者 ] オリンパス光学工業(株)
[仕様 他] 測定範囲:(X)250mm (Y)125mm (Z)75mm
測定重量:30Kg以内(テーブルに載せられるもの)
測定顕微鏡・顕微鏡測定データ処理装置の写真

機器設備を詳しく見る